প্রক্রিয়া: | Magnetron sputtering |
---|---|
Width: | 800- 1600 mm |
দৈর্ঘ্য: | 1500-3000 মিমি |
Type: | Horizontal continuous |
Coating Layer: | Multiple layers |
প্রক্রিয়া: | চৌম্বক sputtering |
---|---|
প্রস্থ: | 800- 1600 মিমি |
লম্বা: | 1500- 3000 মিমি |
আদর্শ: | অনুভূমিক অবিচ্ছিন্ন |
লেপ স্তর: | একাধিক স্তর |
প্রক্রিয়া: | চৌম্বক sputtering |
---|---|
প্রস্থ: | 800- 1600 মিমি |
লম্বা: | 1500- 3000 মিমি |
আদর্শ: | অনুভূমিক অবিচ্ছিন্ন |
লেপ স্তর: | একাধিক স্তর |
প্রক্রিয়া: | চৌম্বক sputtering |
---|---|
প্রস্থ: | 800- 1600 মিমি |
লম্বা: | 1500- 3000 মিমি |
আদর্শ: | অনুভূমিক অবিচ্ছিন্ন |
লেপ স্তর: | একাধিক স্তর |