প্রক্রিয়া | Magnetron sputtering |
---|---|
প্রস্থ | 800-1600 মিমি |
দৈর্ঘ্য | 1500-3000 মিমি |
টাইপ | অনুভূমিক ক্রমাগত |
আবরণ স্তর | একাধিক স্তর |
প্রক্রিয়া | চৌম্বক sputtering |
---|---|
প্রস্থ | 800- 1600 মিমি |
লম্বা | 1500- 3000 মিমি |
আদর্শ | অনুভূমিক অবিচ্ছিন্ন |
লেপ স্তর | একাধিক স্তর |
প্রক্রিয়া | চৌম্বক sputtering |
---|---|
প্রস্থ | 800- 1600 মিমি |
লম্বা | 1500- 3000 মিমি |
আদর্শ | অনুভূমিক অবিচ্ছিন্ন |
লেপ স্তর | একাধিক স্তর |
প্রক্রিয়া | চৌম্বক sputtering |
---|---|
প্রস্থ | 800- 1600 মিমি |
লম্বা | 1500- 3000 মিমি |
আদর্শ | অনুভূমিক অবিচ্ছিন্ন |
লেপ স্তর | একাধিক স্তর |